転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法

【課題】帯状の基板に設けられた区画領域に対して、精度よくパターンを転写することのできる転写装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 転写装置（ＥＸ）は、基板（ＦＢ）を保持して長手方向に移送する移送装置（ＦＲ、ＷＲ）と移送装置（ＦＲ、ＷＲ）に保持された基板（ＦＢ）の一部を保持し、基板（ＦＢ）の表面に沿って移動するステージ装置（ＦＢＳ）とを含む搬送機構と、搬送機構によって移動される基板（ＦＢ）に計測光を照射し、搬送機構による基板の移動方向に沿って基板（ＦＢ）に設けられた複数のマーク（ＡＭ）からの回折光を検出する検出装置（ＬＳＡ）と、検出装置（ＬＳＡ）の検出結果に基づいて区画領域（ＥＡ）の変形に関する情報を算出する演算装置と、演算装置の算出情報に基づいてパターンを補正する補正装置と、を備える。 【選択図】図１