플라즈마 가스를 사용한 실리콘 기판 식각방법

실리콘 기판의 원하는 부분을 식각하는 실리콘 기판 식각방법에 있어서, 본 발명의 실리콘 기판 식각방법은 실리콘 기판 상에 식각 마스크를 형성하는 단계; 할로겐 기초가스, 불화탄소 가스 및 산소를 포함하는 제1 가스를 준비하는 단계; 및 상기 제1 가스를 상기 기판 상에 플라즈마 처리하여 상기 기판을 식각하는 단계;를 포함할 수 있다.