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Fabrication de guide d'onde optique

2011 
L'invention concerne un dispositif optique comprenant une couche centrale active constituee de verre de silice dope avec des ions qui servent d'emetteurs optiques, ladite couche centrale active se trouvant sur un substrat de verre de silice et presentant une epaisseur d'au moins 5 µm, ladite couche etant frittee dans une plage de temperatures de 1500-1600 °C avant de subir un traitement thermique au laser.
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