Si Processes and Si-H Surface

本稿では,フーリエ変換赤外分光法-減衰全反射法(FTIR-ATR)という手法をin-situ化し,Siプロセスの表面・界面での反応過程を調べ,いくつかの知見を得たので紹介する。まず,この手法を用いるに至った背景を述べ,続いて最近の研究例として,Siの自然酸化膜成長過程,層間絶縁膜の平坦化のためのCVDプロセスおよびAl選択CVDプロセスについての結果を紹介する。