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トリス(ジメチルアミノ)シラン前駆体を用いたプラズマ増強原子層堆積のための金属酸化物下層の電気陰性度におけるSiO_2成長速度と差の間の相関【JST・京大機械翻訳】
トリス(ジメチルアミノ)シラン前駆体を用いたプラズマ増強原子層堆積のための金属酸化物下層の電気陰性度におけるSiO_2成長速度と差の間の相関【JST・京大機械翻訳】
2020
Maeda Erika
Nabatame Toshihide
Hirose Masafumi
Inoue Mari
Ohi Akihiko
Ikeda Naoki
Kiyono Hajime
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