Procédé de fabrication d'une microstructure intégrée suspendue tridimensionnelle, microstructure intégrée notamment obtenue par ce procédé et élément optique intégré réglable

L'invention concerne un procede pour la fabrication d'une microstructure suspendue comprenant les etapes suivantes: former une couche de masquage sur une surface superieure d'un substrat; structurer la couche de masquage pour former au moins une ouverture definissant sensiblement la surface de ladite microstructure et pour decouvrir une partie du substrat correspondant a cette surface; porosifier electrochimiquement ledit materiau semi-conducteur decouvert sur une epaisseur determinee; electropolir le materiau semi-conducteur sous-jacent a ladite microstructure porosifiee pour former une cavite entourant au moins partiellement cette microstructure en dessous du niveau de la couche de masquage; et liberer ladite microstructure porosifiee pour former la microstructure suspendue audit substrat par au moins une portion de connexion de son perimetre pour conferer a cette microstructure une mobilite en dehors au plan du substrat.