Licht absorbierende schicht und die schicht enthaltendes schichtsystem, verfahren zur herstellung des schichtsystems und dafür geeignetes sputtertarget

Licht absorbierende Schichtsysteme werden fur verschiedene Anwendungen eingesetzt, wie etwa fur solarthermische Anwendungen oder sogenannte „black matrix"-Schichten in Verbindung mit Flussigkristall-Displays. Die Schicht beziehungs weise die Schichten sollen demnach eine hohe Absorption und geringe Reflektion im sichtbaren Spektralbereich zeigen und sie sollen sich ohne das Entstehen giftiger Substanzen und ohne Partikelruckstande unter Einsatz einfacher verdunnter Sauren atzen lassen. Um dies zu gewahrleisten, wird erfindungsgemas vorgeschlagen, dass die Absorberschicht eine oxidische Matrix hat, basierend auf einer Basiskomponente K1 aus Zinkoxid, Zinnoxid und/oder Indiumoxid, und auf einer Zusatzkomponente K3, die die Basiskomponente K1 bis zu einem Anteil von75 Gew.-% ersetzen kann und die aus Nioboxid, Hafniumoxid, Titanoxid, Tantaloxid, Vanadiumoxid, Yttriumoxid, Zirkonoxid, Aluminiumoxid und Mischungen davon besteht, wobei in der Matrix eine Schwarzungskomponente K2 aus Molybdan, Wolfram und Legierungen und Mischungen davonverteilt ist,die entweder als Metall oder als unterstochiometrisch-oxidische Verbindung des Metalls vorliegt, derart, dass der Schichtwerkstoff einen Reduktionsgrad aufweist, der durch einen Sauerstoffgehalt von maximal 65 % des stochiometrisch maximalen Sauerstoffgehalts definiert ist, und wobei der Anteil „x" der Schwarzungskomponente K2 –berechnet aus dem Gewicht ihres elementaren Anteilsbezogen auf das Gewicht des Schichtwerkstoffs -im Bereich zwischen 20 und 50 Gew.-% liegt.