Composition durcissable pour empreintes, procédé de formation de motifs et motifs

L'invention concerne une composition durcissable pour empreintes, contenant (A1) un compose polymerisable ayant au moins l'un d'un atome de fluor et d'un atome de silicium, (A2) un compose polymerisable ayant un groupe aromatique et (B) un initiateur de photopolymerisation. Cette composition presente une bonne aptitude a la formation de motifs dans le transfert repete de motifs et une excellente resistance aux solvants.