Fabrication de circuit à masque multiniveau et circuit multicouche

La presente invention concerne la fabrication de circuit qui utilise un masque multiniveau pour produire le motif d'une premiere couche de conducteur d'un circuit multicouche. Le premier conducteur produisant le motif doit procurer une isolation electrique entre la premiere couche de conducteur et une seconde couche de conducteur, de sorte que l'une d'elles recouvre le masque multiniveau et se trouve au-dessous du masque multiniveau. Quand la seconde couche de conducteur recouvre le masque multiniveau, l'isolation electrique est procuree par coupe inferieure du masque multiniveau. De maniere alternative, quand le second conducteur se trouve au-dessous du masque multiniveau, le premier conducteur contient un conducteur a intervalles pontes et l'isolation electrique peut etre procuree par le conducteur a intervalles pontes et par une couche isolante entre la seconde couche de conducteur et la premiere couche de conducteur.