Deposition apparatus and the organic material deposition method of the organic thin film

蒸発槽４１内に少量ずつ供給された有機材料が、加熱部４３に接触して加熱され、蒸気となってバッファ装置５０に導入される。 バッファ装置５０には、流路を有するバッファ部５２が設けられており、流路を流れる蒸気はバッファ部５２に衝突し、バッファ部５２に固体の有機材料となって付着する。 バッファ部５２の表面が固体の有機材料で覆われていると、蒸発槽４１内の蒸気発生量の変動はバッファ部５２によって打ち消され、放出装置１２からの蒸気放出が安定する。 放出装置１２からの蒸気放出が安定するまでは、蒸気をトラップ装置６０に導き、トラップ部６２表面に析出させておくと、回収して再利用することができる。