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共焦点ラマン顕微鏡による熱酸化で発生したSiO 2 /4H-SiC界面での応力の研究
共焦点ラマン顕微鏡による熱酸化で発生したSiO 2 /4H-SiC界面での応力の研究
2019
Fu Wei
Kobayashi Ai
Yano Hiroshi
Ueda Akiko
Harada Shinsuke
Sakurai Takeaki
Keywords:
Materials science
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