Procédé et dispositif de production d'un système de couches à faible émissivité

L'invention concerne un procede de production d'un systeme de couches a faible emissivite, comprenant les etapes de la formation d'au moins une couche a faible emissivite, sur au moins une face du substrat, par depot et recuit thermique rapide subsequent, d'au moins une couche a faible emissivite, deposee au moyen d'un rayonnement electromagnetique, tout en evitant un rechauffement immediat du substrat. L'invention concerne en outre un dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede. L'invention a pour but d'ameliorer les proprietes optiques et thermiques d'un systeme de couches a faible emissivite, sans recuit couteux de l'ensemble du substrat, et tout en conservant la convertibilite du substrat de couches inferieur.