Source de plasma inductive

La presente invention concerne des procedes et un appareil pour fournir un traitement par plasma inductif RF efficace et graduable. Selon certains aspects, le couplage entre un applicateur d'energie RF inductive et le plasma et/ou la definition spatiale de transfert de puissance depuis l'applicateur sont grandement ameliores. Les procedes et appareil decrits realisent ainsi un rendement electrique eleve, reduisent le couplage capacitif parasite, et/ou ameliorent l'uniformite de traitement. Divers modes de realisation comprennent un appareil de traitement de plasma comportant une chambre de traitement bordee de parois, un porte-substrat dispose dans la chambre de traitement, et un applicateur d'energie RF inductive externe a une paroi de la chambre. L'applicateur d'energie RF inductive comprend un ou plusieurs elements de couplage inductif RF (elements ICE). Chaque element de couplage inductif comporte un concentrateur magnetique tout proche d'une fenetre dielectrique mince sur la paroi de l'applicateur.