基板テーブル用カバー、リソグラフィ装置用基板テーブル、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法

【課題】メニスカスの安定性を向上させて、液浸液中の気泡などによるパターン欠陥を低減する液浸リソグラフィ装置を提供する。 【解決手段】基板Ｗを受けて支持するように構成された凹部２２が形成されている実質的に平面状の上部面を有する基板テーブルを含むカバー２５が提供され、このカバー２５は実質的に平面状の本体を備え、平面状の本体が使用する時凹部２２の縁端部と基板の縁端部との間の隙間を覆うように、上部面から基板の上部主要面の周辺部分まで基板のまわりに延在する。このカバーは比較的柔軟な部分を含み、比較的柔軟な部分が、使用するとき基板のまわりに延在し、カバーの残りの部分より低い剛性を有するように構成される。 【選択図】図６