Old Web
English
Sign In
Acemap
>
Paper
>
高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)により作製したTiN膜の性質に及ぼす磁場強度と蒸着圧力の影響【Powered by NICT】
高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)により作製したTiN膜の性質に及ぼす磁場強度と蒸着圧力の影響【Powered by NICT】
2017
Wu Jian
B. H. Wu
D.L. Ma
D. Xie
Y. P. Wu
Chen C.-Z.
Y T Li
H. Sun
N. Huang
Y X Leng
Keywords:
Metallurgy
Materials science
Mechanical engineering
High-power impulse magnetron sputtering
Engineering physics
Correction
Source
Cite
Save
Machine Reading By IdeaReader
0
References
0
Citations
NaN
KQI
[]