組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法

溶媒耐性を維持しつつ、平坦性、ウェット剥離耐性及びパターンの曲り耐性に優れる膜を形成できる組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法の提供を目的とする。本発明は、下記式（１）で表される基を有し、分子量が２００以上であり、炭素原子の含有率が４０質量％以上である化合物と、溶媒とを含有する組成物である。下記式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基若しくは炭素数１〜２０の１価のフッ素化炭化水素基であるか、又はこれらの基が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数３〜２０の脂環構造の一部である。Ａｒ１は、環員数６〜２０のアレーン又はヘテロアレーンから（ｎ＋３）個の水素原子を除いた基である。Ｘは、酸素原子、−ＣＲ３Ｒ４−、−ＣＲ３Ｒ４−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＲ３Ｒ４−である。