Appareil de depot chimique en phase vapeur

La presente invention concerne un systeme permettant d'effectuer un depot chimique en phase vapeur, qui comprend une chambre de depot munie d'un couvercle auquel est attache un vaporisateur. Une ou plusieurs soupapes sont en outre placees entre le couvercle et le vaporisateur afin de restreindre le flux de materiau precurseur arrivant dans la chambre et d'ameliorer la purge d'un systeme de distribution de materiau precurseur attache au vaporisateur. Le systeme de distribution de precurseur possede une ou plusieurs lignes d'amenee, dont une au moins est une ligne d'amenee souple se presentant sous la forme d'un enroulement a spires multiples dont l'elasticite en torsion permet de detacher le couvercle de la chambre sans devoir rompre ou demonter une ligne d'amenee. De preference, la ligne d'amenee souple est constituee d'un enroulement a trente (30) spires d'un diametre de trois (3) pouces environ fabrique a partir d'un tube en acier inoxydable. Dans un autre mode de realisation, la ligne d'amenee souple est realisee dans un materiau membranaire permeable tel que le Teflon®, une variante du Teflon® ou du PFA 440-HP, qui est ensuite place dans une gaine. La gaine est reliee a une unite de commande de pression qui permet le degazage des lignes d'amenee et qui assure un espace entre les lignes d'amenee et la gaine.