脉冲激光沉积Bi0．5（Na0．7K0．1Li0．2）0．5TiO3无铅压电薄膜的研究

采用脉冲激光沉积制备了新型无铅压电Bi0．5（Na0．7K0．1Li0．2）0．5TiO3陶瓷薄膜，分别利用X射线衍射仪、X射线光电子谱、俄歇电子能谱、原子力显微镜及扫描电镜研究了该薄膜的晶体结构、组成成分及表面形貌。结果表明，薄膜基体温度和工作气压对所生长的薄膜影响较大；在SiO2／Si基片上制备Bi0．5（Na0．7K0．1Li0．2）0．5TiO3薄膜的最佳温度和氧气压力分别为600℃和13Pa；利用脉冲激光沉积的薄膜具有精细的表面结构。