EBSD技术在大塑性变形制备超细晶与纳米材料中的应用：试样制备、参数优化与数据分析

在场发射扫描电镜的帮助下,电子背散射技术（EBSD）能用来研究大小低达几十纳米的晶粒（或亚晶粒）,其角分辨率达~0.5°。EBSD 技术的快速发展（电子衍射花样的采集速度已高达1100点/s）使其相关领域的科技论文发表数量迅速增加。本文评述了 EBSD 的试样制备、参数优化和数据分析,特别是在大塑性变形（SPD）制备超细晶和纳米材料方面的应用。总结了电化学抛光、二氧化硅乳液机械抛光和离子束抛光等EBSD试样制备技术的优缺点和实用参数。结果表明,离子束抛光技术是一项通用的、几乎适用于所有EBSD试样的有效抛光方法。随着EBSD扫描步长的变化,花样的标定率存在一个极大值。最优化的EBSD扫描步长取决于试样图片的放大倍数和数据采集板的分辨率（或电子步长）。对晶粒和亚晶粒、织构和晶界结构等进行分析是EBSD的基本功能。EBSD也可对塑性变形的应变和存储能等进行分析。