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HfO₂/Ge界面へのルチル型TiO₂挿入によるGeOx生成の抑制 (シリコン材料・デバイス)
HfO₂/Ge界面へのルチル型TiO₂挿入によるGeOx生成の抑制 (シリコン材料・デバイス)
2013
kazuyosi kobasi
takahiro nagata
tosihide namatame
yosiyuki yamasita
atusi ogura
yutaka hirosi ti kyou
Keywords:
Materials science
High-κ dielectric
Analytical chemistry
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