Cible de pulvérisation à corps de tungstène fritté et son procédé de fabrication

Cette invention concerne une cible de pulverisation a corps de tungstene fritte, caracterisee en ce qu'elle contient une quantite inferieure ou egale a 0,8 ppm en masse d'impuretes de fer, le reste etant du tungstene et les inevitables impuretes. La concentration de fer dans la composition cible est situee dans une plage de ±0,1 ppm en masse par rapport a la concentration de quantite moyenne contenue. Ladite cible de pulverisation a corps de tungstene fritte est en outre caracterisee en ce que la densite relative de la cible est superieure ou egale a 99%, le diametre moyen des particules cristallines est inferieure ou egale a 50 μm et la gamme des diametres des particules cristallines va de 5 a 200 μm. L'invention assure la suppression de la croissance anormale du grain dans la cible de pulverisation a corps de tungstene fritte en reduisant sa teneur en fer.