パターン形成方法、パターン膜、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、ブロック共重合体、及び、パターニング材料

（ｉ）基板（１０）上に、第一の繰り返し単位のブロックと第二の繰り返し単位のブロックとを有するブロック共重合体を含有する組成物を塗布することにより、ブロック共重合体層（３１）を形成する工程、（ｉｉ）上記ブロック共重合体層（３１）に、加熱、及び、活性光線又は放射線の照射からなる群より選択される少なくとも１種の外的刺激を与える工程、（ｉｉｉ）上記ブロック共重合体層（３１）を相分離させる工程、及び、（ｉｖ）上記ブロック共重合体層（３１）における複数の相の内の少なくとも１つの相（３２）を選択的に除去する工程をこの順で有するパターン形成方法であって、上記第一の繰り返し単位は上記外的刺激を契機として極性が変化する官能基を有し、上記第二の繰り返し単位は上記外的刺激を契機として極性が変化する官能基を有さない、パターン形成方法。