ИОННОЕ - И ИОННО-ХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ ПЛЕНОК МЕТАЛЛОВ В ПЛОТНОЙ ПЛАЗМЕ ВЧ ИНДУКЦИОННОГО РАЗРЯДА

Представлены результаты исследования тонких пленок полученных распылением WTi, Ta, Pt, Al, Cu, Сr и Со в плотной плазме Ar (Еi <150 эВ) ВЧ индукционного разряда низкого давления и в ионно-химическом режиме распыления Co и Cr в Ar/O2 плазме. Полученный набор данных хорошо согласуется с литературными данными.