Wafer heating furnace and apparatus for chemical vapor deposition including the same

챔버에 조사되는 광을 미연에 차단하는 구조를 갖는 기판 가열로 및 이를 포함하는 화학 기상 증착 장치는 다수 매의 기판을 지지하는 보트를 수용하는 공간을 갖는 공정 챔버와 상기 기판을 가열하기 위해 상기 공정 챔버의 외부를 둘러싸도록 구비되고, 외부에서 인가된 전원에 의해 광(Light)과 열(Heat)이 발생하는 히터 및 상기 히터 표면에 형성되어 상기 챔버 내부에 수용된 기판에 제공되는 광을 차단하며, 상기 챔버 내부로 제공되는 열을 전달하는 코팅막을 포함한다. 상기 코팅막이 형성된 히터는 광이 생성되지 않고, 챔버 내부로 열만 제공하기 때문에 기판의 폴리실리콘막을 증착하는 공정을 수행할 경우 폴리실리콘막의 이상 성장을 억제할 수 있다.