マスクパターン配置方法、マスク作製方法、プログラムおよびマスク

【課題】一部に薄膜部の形成不良が生じた場合においても、マスクパターン形成に影響を受けないパターン配置を得ることができるパターン配置方法およびそのプログラムを提供する。また、上記のパターン配置をもつマスクパターンを形成するマスク作製方法、並びに当該マスク作製方法により作製されたマスクを提供する。 【解決手段】メンブレンの形成に不具合がある領域を予めパターン配置禁止領域として特定する。そして、パターンの相補分割ならびに各マスク領域への配置が完了した後に（ステップＳＴ１，ＳＴ２）、パターン配置禁止領域内に配置された再配置対象パターン４４を抽出し（ステップＳＴ３）、別のマスク領域へ再配置することにより（ステップＳＴ４）、仮にマスクブランクスにパターン形成が困難な領域が存在しても、マスクパターン形成可能なパターン配置が得られる。 【選択図】図６