Procédé de traitement pour le planage-polissage photochimique/électrochimique à précision nanométrique et dispositif correspondant

L'invention porte sur un procede de traitement de planage-polissage photochimique/electrochimique avec une precision nanometrique et sur un dispositif correspondant. Ledit procede comprend la production par un procede electrochimique, photochimique en photo-electrochimique d'un agent d'attaque chimique sur des surfaces d'un dispositif de coupe en planage a precision nanometrique. Par la reaction chimique qui a lieu entre l'agent d'attaque chimique et un epurateur contenu dans une solution de travail ou par la decomposition de l'agent d'attaque chimique lui-meme, une couche d'agent d'attaque chimique liquide a l'echelle nanometrique est produite sur les surfaces du dispositif de coupe. Par la reaction chimique entre la couche d'agent d'attaque chimique liquide et une piece a travailler, on peut doter les surfaces de la piece a travailler d'une precision de profil a l'echelle nanometrique et d'une rugosite a l'echelle nanometrique, afin de realiser le planage-polissage a precision nanometrique pour la piece a travailler.