Composition de résine radio-sensible et procédé de formation d'un motif de réserve

L'invention concerne une composition de resine radio-sensible qui permet de produire une bonne forme de motif, qui possede d'excellentes proprietes de reserve de base comme la sensibilite, la resolution, le LWR, la defectuosite d'image et la resistance a l'affaissement de motif, qui permet d'empecher la survenue de defauts de filigrane et de defauts de type bulles durant une exposition par immersion, et qui permet la production d'un film de reserve ayant une surface hydrofuge  satisfaisante. L'invention concerne egalement un procede permettant de former un motif reserve en utilisant cette composition de resine. Ladite composition de resine comprend une resine (A) qui contient une unite recurrente qui peut devenir alcalino-soluble sous l'action d'un acide et qui ne contient pas d'unite recurrente renfermant un atome de fluor; (B) un generateur d'acide radio-sensible; (C) une resine fluoree qui contient une unite recurrente qui peut devenir alcalino-soluble sous l'action d'un acide et qui contient egalement une unite recurrente renfermant un atome de fluor; et (D) un compose de lactone, la teneur en compose de lactone (D) etant comprise entre 31 et 200 parties en masse par rapport a 100 parties en masse de la resine (A).