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Acemap > Paper > 10nmテクノロジーノード以降のパターンマッチングによる自己整合型ダブルパターニング(SADP)対応レイアウト設計の最適化

10nmテクノロジーノード以降のパターンマッチングによる自己整合型ダブルパターニング(SADP)対応レイアウト設計の最適化

2016 
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