Beleuchtungsoptik für die euv-projektionslithografie sowie optisches system mit einer derartigen beleuchtungsoptik

Eine Beleuchtungsoptik (26) fur die EUV-Projektionslithografie dient zur Fuhrung von Beleuchtungslicht (16) hin zu einem Beleuchtungsfeld (5), in dem eine Lithografiemaske (7) anordenbar ist. Ein Facettenspiegel (19) mit einer Mehrzahl von Facetten (25) dient zur Fuhrung des Beleuchtungslichts (16) hin zum Beleuchtungsfeld (5). Jeweils ein Ausleuchtungskanal (27), der ein Beleuchtungslicht-Teilbundel fuhrt, ist durch eine der Facetten (25) vorgegeben. Uber jeweils eine der Facetten (25) ist genau ein Ausleuchtungskanal (27) gefuhrt. Die Beleuchtungsoptik (26) ist derart ausgebildet, dass im Betrieb der Beleuchtungsoptik (26) zu jedem Zeitpunkt an jedem Punkt des Beleuchtungsfeldes (5) beliebige Paare von Beleuchtungslicht-Teilbundeln, die uber verschiedene Ausleuchtungskanale (27) gefuhrt werden, auf diesem Beleuchtungsfeldpunkt zu Auftreffzeitpunkten auftreffen, deren zeitliche Differenz (∆t) groser ist als eine Koharenzdauer τ ĸ des Beleuchtungslichts (16). Es resultiert eine Beleuchtungsoptik, deren Qualitat der Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes verbessert ist.