A process for the production of thin films by a thermally activated process using a temperature gradient across the substrate

Ein thermisch aktivierter Stapelprozess dient zur Herstellung dunner Materialschichten in Halbleiterbauelementen, wobei das Erzeugen eines Uberhitzungstemperaturprofils vor dem eigentlichen Bilden einer Materialschicht durch beispielsweise Abscheiden enthalten ist, so dass eine Gasverarmung im Zentrum des Substrats wahrend des Abscheideprozesses kompensiert werden kann. Somit kann eine verbesserte Dickengleichmasigkeit fur dunne Materialschichten im Bereich von 1 bis 50 nm erreicht werden, ohne dass langere Prozesszeiten erforderlich sind, oder wobei sogar eine geringere Prozesszeit ermoglicht wird.