Atténuation de raccourcissement de fins de ligne pendant une gravure

L'invention concerne un procede pour graver des motifs dans une couche a graver. Ledit procede consiste a former sur la couche a graver un masque de photoresine comportant au moins une ligne de photoresine dotee d'une paire de parois laterales se terminant sur une fin de ligne. Une couche polymere est placee sur la ligne de phororesine, l'epaisseur de cette couche au niveau de la fin de ligne de photoresine etant superieure a l'epaisseur de la couche polymere sur les parois laterales de la ligne de photoresine. Les motifs sont graves dans la couche a graver par l'intermediaire du masque de photoresine, le rapport de raccourcissement de fin de ligne (LES) etant inferieur ou egal a 1.