Gaseinlassorgan mit gelochter Isolationsplatte

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden mindestens einer Schicht auf mindestens einem Substrat, wobei das Substrat (8) auf dem Boden (7) einer in einem Reaktorgehause (1) angeordneten Prozesskammer (6) liegt, wobei Prozessgas aus einer die Decke der Prozesskammer bildenden, mit Abstand und parallel zum Boden (7) angeordneten Gasaustrittsplatte (15) austritt, wobei die Gasaustrittsplatte (15) in flachiger Anlage an einer eine Vielzahl von Gasaustrittsoffnungen (14) aufweisenden Breitseitenwand (13) eines Gaseinlassorgans (2) anliegt, durchlassig fur das aus den Gasaustrittsoffnungen (14) austretende Prozessgas und schlechter warmeleitend als die Breitseitenwand (13) des Gaseinlassorgans (2) ist. Um Masnahmen anzugeben, um parasitare Depositionen an der Prozesskammerdecke zu verhindern, wird vorgeschlagen, dass die Gasaustrittsplatte (15) zu den Gasaustrittsoffnungen (14) korrespondierende Gasdurchtrittsoffnungen (19) aufweist, wobei die Durchmesser der Gasdurchtrittsoffnungen (19) groser sind als die Durchmesser der Gasaustrittsoffnungen (14).