レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー

【課題】レジスト組成物用のクエンチャーとして有用な新規な化合物、該化合物からなるクエンチャーを含有するレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、およびクエンチャー成分（Ｄ）を含有するレジスト組成物であって、前記クエンチャー成分（Ｄ）が、下記一般式（ｄ１−３）で表される化合物からなるクエンチャー（Ｄ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。式（ｄ１−３）中、Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり；Ｘは−Ｃ（Ｏ）−又は−ＳＯ ２ −であり；Ｒ’は脂肪族基であり；ｎは１〜１０の整数であり；Ａ ＋ は芳香族基を有さない脂肪族有機カチオンである。 ［化１］ 【選択図】なし