熱架橋促進剤、これを含有するポリシロキサン含有レジスト下層膜形成用組成物、及びこれを用いたパターン形成方法

【課題】本発明は、上層レジストとのエッチング選択性を改善し、従来のケイ素含有レジスト下層膜を使用した場合よりもより微細なパターンにおいてもエッチング後のパターン形状を改善する熱架橋促進剤を提供する。 【解決手段】ポリシロキサン化合物の熱架橋促進剤であって、下記一般式（Ａ−１）で示されるものであることを特徴とするポリシロキサン化合物の熱架橋促進剤。 （Ｒ １１ 、Ｒ １２ 、Ｒ １３ 、Ｒ １４ はそれぞれ、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基等、炭素数６〜２０の置換あるいは非置換のアリール基、又は炭素数７〜２０のアラルキル基等を示し、これらの基の水素原子の一部又は全部がアルコキシ基等で置換されてもよい。ａ、ｂ、ｃ、ｄは０〜５の整数。ａ、ｂ、ｃ、ｄが２以上の場合は、Ｒ １１ 、Ｒ １２ 、Ｒ １３ 、Ｒ １４ が環状構造を形成してもよい。Ｌはリチウム等である。） 【選択図】なし