가스 분사 장치 및 이에 사용되는 인젝터 파이프

본 발명은 가스 분사 장치 및 이에 사용되는 인젝터 파이프에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 화학기상증착법(CVD)에서 기판에 가스를 분사하는 가스 분사 장치 및 이에 사용되는 인젝터 파이프에 관한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 본체, 상기 본체 내에 상기 본체의 일측단에서 타측단으로 길이 방향을 따라 형성되는 가스 유로; 상기 본체 내에 형성되되, 상기 가스 유로에 연결되어 가스를 분사하는 블레이드; 및 상기 가스 유로 내부에 삽입되며, 가스 공급부로부터 가스를 공급받아 복수 개의 구멍을 통해 상기 가스 유로로 가스를 분배하는 인젝터 파이프를 포함하고, 상기 인젝터 파이프에 형성된 복수 개의 구멍은, 상기 인젝터 파이프의 길이 방향을 따라 서로 평행한 두 선 상에 형성되는 복수 개의 제 1 구멍 및 복수 개의 제 2 구멍으로 이루어지고, 상기 제 1 구멍과 제 2 구멍은 서로 교번되게 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 분사 장치를 제공한다.