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Acemap > Paper > 반도체 : Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거

반도체 : Cl2/HBr/CF4 반응성 이온 실리콘 식각 후 감광막 마스크 제거

2010 
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