Composition de sous-couche de réserve et procédé pour la formation de motif l'utilisant

L'invention porte sur une composition de sous-couche de reserve presentant de remarquables stabilite thermique et resistance a la gravure et d'excellentes proprietes de bouchage des trous et sur un procede pour la formation d'un motif utilisant celle-ci. La composition de sous-couche de reserve comprend : un polymere contenant des noyaux aromatiques comprenant un motif repete represente par la formule chimique 1 telle que decrite dans la description ; un compose represente par la formule chimique 4 telle que decrite dans la description ; et un solvant organique. Dans la formule chimique 1 telle que decrite dans la description, R 1 represente un groupe hydrocarbone aromatique monocyclique ou polycyclique en C 5 -C 20 , R 2 et R 3 representent chacun independamment un groupe hydrocarbone aromatique monocyclique ou polycyclique en C 4 -C 14 , a represente un nombre entier de 1 a 3 et b represente un nombre entier de 0 a 2. Dans la formule chimique 4 telle que decrite dans la description, n represente un nombre entier de 1 a 250.