丙酮增敏—吐温40化学发光新体系测定痕量锇（IV）的研究

研究了吐温４０－ＫＯＨ－Ｏｓ（Ⅳ）化学发光新体系，发现丙酮等有机溶剂对该化学发光反应有很大地增敏作用。锇量在１．０×１０＾－８～１．０×１０＾－６ｇ／ｍｌ范围内，发光强度与锇量成正比。方法在检出限为１．１×１０＾－１０ｇ／ｍｌ；对于１．０×１０＾－７ｇ／ｍｌ的Ｏｓ（Ⅳ）重复１１次测定发光强度的相对标准偏差为２．２％。