凹凸パターン形成材料、凹凸パターン受容体、凹凸パターン形成方法、転写箔、及び光学物品

【課題】版取られが少なく、賦型性及び賦型維持性に優れ、凹凸パターンを有する表面構造を精度よく、高速に複製できる凹凸パターン形成材料、特に、近年の非常に複雑な微細凹凸パターンまで正確に複製できる凹凸パターン形成材料を提供する。また、凹凸パターン受容体、凹凸パターン転写箔、凹凸パターン形成方法、及び光学物品を提供する。 【解決手段】下記（Ａ）成分、及び（Ｂ）成分を含有し、且つ、（Ａ）成分が固形分全体の４０質量％以上含まれる光硬化性樹脂組成物である、凹凸パターン形成材料である。 （Ａ）：１分子内にエチレン性不飽和結合を２つ以上及び環状構造を含み、２５℃における粘度が５００００ｍＰａ・ｓ以上であり、且つ分子量が５０００以下である光硬化性モノマー及び／又はオリゴマー （Ｂ）：２５℃における粘度が１０００００ｍＰａ・ｓ以上であり、且つ分子量が１００００以上であるポリマー 【選択図】 なし