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Si_ Ge_xバッファ層の歪緩和および転位構造制御( Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)
Si_ Ge_xバッファ層の歪緩和および転位構造制御( Buffer層を中心としたエピタキシーの新展開)
2005
taoka noriyuki
sakai akira
motizuki syougo
nakatuka ri
ogawa masaki
zaima tin mei
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Materials science
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