Decorated Boundaries Observed in Copper Electrodeposits

1986 
La microscopie electronique analytique des depots de cuivre obtenus en presence d'un brillanteur revele la presence d'inclusion, decorant les dislocations de joints de grains et etant disperses dans la matrice. Dimension et morphologie de ces inclusions
    • Correction
    • Source
    • Cite
    • Save
    • Machine Reading By IdeaReader
    0
    References
    7
    Citations
    NaN
    KQI
    []