描画方法、描画装置、および電気光学装置
2003
【課題】ノズルピッチと画素領域ピッチとを最適化して、効率的に画素領域を形成する。 【解決手段】基板11上に樹脂境界層12によって仕切られた複数の画素領域1を形成する工程と、画素領域1へ描画装置100の複数のノズル117から液滴を吐出して着弾滴2を形成する工程とを備えた描画方法であって、画素領域1を形成する工程は、画素領域1のピッチ寸法がノズルのピッチ寸法の整数倍となるように画素領域1を形成する。 【選択図】 図2
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