Bains d'électrodéposition à l'indium pour dépôt de couche mince

La presente invention concerne des solutions d'electrodeposition a l'indium (In) qui sont utilisees pour deposer des films d'In uniformes, lisses, essentiellement exempts de defauts, et ayant une composition pure, avec pres de 100 % d'efficacite de placage et de repetitivite. Dans un mode de realisation, la solution de placage comprend une source d'In, de l'acide citrique et son sel de base conjuguee et un solvant. A une valeur de pH inferieure a 4,0, des couches d'In d'une epaisseur inferieure au micron et ayant une purete proche de 100 % et une efficacite de placage proche de 100 % sont produites. De telles couches d'In sont utilisees dans la fabrication de dispositifs electroniques tels que des cellules solaires a film mince.