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大気圧マイクロ熱プラズマジェット結晶化ゲルマニウム膜の電気特性評価及び高性能薄膜トランジスタの作製 (シリコン材料・デバイス)
大気圧マイクロ熱プラズマジェット結晶化ゲルマニウム膜の電気特性評価及び高性能薄膜トランジスタの作製 (シリコン材料・デバイス)
2016
taiti nakatani
taimu harada
seiitirou higasi
Keywords:
Thin-film transistor
Germanium
Electronic engineering
Materials science
Optoelectronics
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