저온 열처리를 이용한 석면 함유 물질로부터 석면을 99% 이상 제거하는 방법

본 발명은 저온 열처리를 이용한 석면 함유 물질로부터 석면을 99% 이상 제거하는 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 석면 함유 물질과 옥살산을 1:0.002 - 1:1의 무게비로 혼합한 후 90 - 110 ℃에서 열처리하는 것을 특징으로 하는 저온 열처리를 이용한 석면 함유 물질의 무해화방법에 관한 것이다.