Appareil a etages et appareil de traitement par plasma

La presente invention concerne un appareil a etages, ne presentant pas de gradin entre l’extremite superieure d’une tige de levage et un plan de placement d’un etage, se trouvant dans un etat ou un substrat a traiter est place sur le plan de placement. L’invention se rapporte aussi a un appareil de traitement par plasma qui peut supprimer la generation non uniforme d’un traitement a l’aide de l’appareil a etages servant d’etage a electrode. Sur la partie centrale d’un etage a electrode (2), on installe une tige de levage de type ressort (20) possedant une elasticite dans le sens du deplacement de la tige. Une extremite superieure de tige (20a) de la tige de levage de type ressort (20) fait saillie au-dessus d’un plan de placement (11) de l’etage a electrode (2) en position de stockage. Lorsque le substrat (4) a traiter est place et aspire sur le plan de placement (11), l’extremite superieure de la tige de levage est comprimee vers le bas a un niveau correspondant a celui du plan de placement (11) par une charge provenant du substrat (4).