Procédé de production d'un dioxyde de silicium nanométrique

L'invention concerne un procede de production d'un dioxyde de silicium nanometrique, comprenant les etapes consistant : a) a prendre une suspension aqueuse d'un dioxyde de silicium colloidal dont les particules ont une taille moyenne de 1 a 500 nm; b) a la faire reagir avec un organosilane ou un organosiloxane dans un ether cyclique aprotique et a proceder a la silanisation du dioxyde de silicium colloidal; c) a separer la phase aqueuse du melange reactionnel de la phase organique; d) a faire une nouvelle fois reagir la phase organique avec un organosilane ou organosiloxane dans un ether cyclique aprotique et a silaniser le dioxyde de silicium colloidal; e) a separer la phase aqueuse du melange reactionnel de la phase organique.