Procédés de formation de couches sur un substrat

La presente invention concerne des procedes de formation de couches sur un substrat dans lequel est forme au moins un element. Dans certains modes de realisation, un procede de formation de couches sur un substrat dans lequel est forme au moins un element peut consister a deposer une couche de germination dans le ou les elements, et a graver la couche de germination pour retirer au moins une partie de la couche de germination a proximite d'une ouverture de l'element de telle sorte que la couche de germination presente une premiere epaisseur disposee sur une partie inferieure d'une paroi laterale de l'element a proximite d'un fond de l'element et une seconde epaisseur disposee sur une partie superieure de la paroi laterale a proximite de l'ouverture de l'element, la premiere epaisseur etant superieure a la seconde epaisseur.