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InAlAs上の原子層蒸着したAl_2O_3とHfO_2:界面構造及び電気特性の比較研究【Powered by NICT】
InAlAs上の原子層蒸着したAl_2O_3とHfO_2:界面構造及び電気特性の比較研究【Powered by NICT】
2016
Wu Lifan
Zhang Yuming
Lv Hongliang
Zhang Yi-Men
Keywords:
Quantum mechanics
Physics
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