Effects of aging treatment on properties of SiO2 thin films with different deposition technology

SiO2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO2薄膜，并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO2薄膜的光学特性，随着时间的增加，EB-SiO2薄膜和IAD-SiO2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加，但IBS-SiO2薄膜随着减小，变化率分别为1.0%，2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时，IBS-SiO2薄膜、EB-SiO2薄膜和IAD-SiO2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明，IBS-SiO2薄膜的光学特性稳定性最好，在最外层保护薄膜选择中，应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO2薄膜。